Actualité
Soutenance Bachar Al Chimali
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- Sujet de thèse,
Date(s)
le 27 novembre 2025
Lieu(x)
Site Grandmont
Amphithéâtre GEII
Soutenance de thèse de M. Bachar Al Chimali (laboratoire GREMAN)
M. Bachar Al Chimali soutiendra publiquement sa thèse le 27 novembre prochain dans l'amphithéâtre de l'IUT GEII de Tours. Le jury sera composé de ses encadrants, Pr. Gaël Gautier, VP INSA-CVL; Dr. Brice Le Borgne, Univ. Tours ainsi que des deux rapporteurs Pr. Florence Razan, VP ENS Rennes et D.R. Yannick Coffinier, IEMN Lille et l'examinatrice D.R. Elisabeth Blanquet, SIMAP Grenoble.
Cette thèse porte sur la fonctionnalisation du silicium poreux par dépôt de couches minces de TiO2 élaborées par Atomic Layer Deposition (ALD) en vue d’applications de photocatalyse chimique. Le silicium poreux, grâce à sa surface spécifique élevée et sa géométrie ajustable, constitue un support idéal, mais souffre d’une instabilité intrinsèque en milieu aqueux. L’ALD, technique particulièrement adaptée aux structures à fort facteur d’aspect, a été exploitée pour déposer des films homogènes et conformes de TiO2, matériau de référence en photocatalyse. Après optimisation des conditions de gravure électrochimique et du procédé ALD (mode Stop-Flow), des structures macroporeuses et mésoporeuses mécaniquement et chimiquement stables ont été obtenues grâce à leur couverture par des couches cristallines nanométriques continues. L’étude a montré qu’une passivation efficace peut être atteinte dès l’échelle nanométrique, et que les performances photocatalytiques, évaluées via la dégradation du bleu de méthylène, sont fortement corrélées à la morphologie poreuse et à la qualité de la couverture. Les substrats mésoporeux fonctionnalisés par une couche conforme de 10 nm de TiO2 se sont révélés les plus performants, confirmant que l’association entre une architecture poreuse optimisée et un dépôt ALD constitue une stratégie prometteuse pour la conception de dispositifs photocatalytiques innovants.
Cette thèse porte sur la fonctionnalisation du silicium poreux par dépôt de couches minces de TiO2 élaborées par Atomic Layer Deposition (ALD) en vue d’applications de photocatalyse chimique. Le silicium poreux, grâce à sa surface spécifique élevée et sa géométrie ajustable, constitue un support idéal, mais souffre d’une instabilité intrinsèque en milieu aqueux. L’ALD, technique particulièrement adaptée aux structures à fort facteur d’aspect, a été exploitée pour déposer des films homogènes et conformes de TiO2, matériau de référence en photocatalyse. Après optimisation des conditions de gravure électrochimique et du procédé ALD (mode Stop-Flow), des structures macroporeuses et mésoporeuses mécaniquement et chimiquement stables ont été obtenues grâce à leur couverture par des couches cristallines nanométriques continues. L’étude a montré qu’une passivation efficace peut être atteinte dès l’échelle nanométrique, et que les performances photocatalytiques, évaluées via la dégradation du bleu de méthylène, sont fortement corrélées à la morphologie poreuse et à la qualité de la couverture. Les substrats mésoporeux fonctionnalisés par une couche conforme de 10 nm de TiO2 se sont révélés les plus performants, confirmant que l’association entre une architecture poreuse optimisée et un dépôt ALD constitue une stratégie prometteuse pour la conception de dispositifs photocatalytiques innovants.
